熱門關(guān)鍵詞: 測角儀,應力雙折射,折射率,薄膜弱吸收,反射率,GDD檢測設備,波片相位延遲,剪切
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簡要描述:該系統(tǒng)利用PEM調(diào)制光束的偏振狀態(tài)、先進探測和解調(diào)電子來測量光學如何改變偏振狀態(tài)。這就導致了一個偏振狀態(tài)相對于另一個偏振狀態(tài)的光延遲測量結(jié)果是90°。利用這些數(shù)據(jù)可以對雙折射、快速軸向和理論殘余應力測量進行評估。在平板透鏡和己完成透鏡的研究和生產(chǎn)中, HindsInstruments和Exicor斜入射角技術(shù)被用于評估光學雙折射
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利用光彈調(diào)制器技術(shù),Hinds 公司的應力雙折射測量系統(tǒng)(殘余應力測量)可以在深紫外(193nm)波段進行應力雙折射探測。針對特定材料制作(氟化鈣)和特定形狀(非球面透鏡)的技術(shù)解決方案。
應力雙折射測量系統(tǒng),非球面透鏡應力雙折射測量,應力橢偏儀,應力橢偏測量,殘余應力測量
Hinds 公司的不規(guī)則非球面光學元件應力分布測量系統(tǒng)(應力雙折射測量系統(tǒng))通過對光的調(diào)制解調(diào)可以測出待測光學元件中的雙折射大小和方向,這些數(shù)據(jù)同時也表示了應力的大小和方向。Hinds 公司這套不規(guī)則非球面光學元件應力分布測量系統(tǒng)的傾斜,多角度入射掃描技術(shù)可以保證對非球面不規(guī)則的光學元件(光刻機透鏡等)有著的掃描測量解決方案。
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